[发明专利]一种平面光学波导芯片的制备方法无效
| 申请号： | 201110240244.3 | 申请日： | 2011-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN102289036A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 丁勇;李虹;赖龙斌;朱伟 | 申请（专利权）人： | 博创科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G02B6/136 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人： | 黄志达;谢文凯 |
| 地址： | 314050 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种平面光学波导芯片的制备方法，包括：(1)把平面波导芯片的基板固定在旋转涂胶机上；把无机氧化硅纳米溶胶材料滴在基板上，形成均匀薄膜；对所述薄膜进行热处理，即得下包层；(2)与上述制备下包层相同方法，在下包层上制备芯层，并对其进行光刻和蚀刻工艺；(3)与上述制备下包层相同方法，在步骤(2)制得的芯层上制备上包层，即得。本发明采用液相旋转涂胶的方法代替传统的气相蒸镀方法来制备平面波导芯片的下包层、芯层及上包层，可减少制备工序，缩短制备周期，提高制备效率，大幅度降低制备成本，适合于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 光学 波导 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种平面光学波导芯片下包层的制备方法，包括：把平面波导芯片的基板固定在旋转涂胶机上；把无机氧化硅纳米溶胶材料滴在基板上，形成均匀薄膜；对所述薄膜进行热处理，即得下包层。
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