[发明专利]具有台阶的衬底的光刻方法有效
| 申请号： | 201110240764.4 | 申请日： | 2011-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN102955364A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 王雷 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 孙大为 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有台阶的衬底的光刻方法，其包括如下步骤：步骤一，在衬底表面涂光刻胶，将曝光机的焦点设置在台阶底部位置，而后采用光刻掩膜版进行曝光；步骤二，在步骤一中的光刻胶上再涂一光刻胶层，之后将所述曝光机的焦点设置在所述光刻胶层表面，进行全面曝光；步骤三，对所述衬底进行加热处理，使形成的光酸扩散均匀，所述加热处理的温度小于所述光刻胶分解的温度；步骤四，对衬底进行显影，形成最终图形。采用本发明的光刻方法，使最终光刻胶形貌更接近于设计需求。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 台阶 衬底 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种具有台阶的衬底的光刻方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一，在衬底表面涂光刻胶，将曝光机的焦点设置在台阶底部位置，而后采用光刻掩膜版进行曝光；步骤二，在步骤一中的光刻胶上再涂一光刻胶层，之后将所述曝光机的焦点设置在所述光刻胶层表面，进行全面曝光；步骤三，对所述衬底进行加热处理，使形成的光酸扩散均匀，所述加热处理的温度小于所述光刻胶分解的温度；步骤四，对衬底进行显影，形成最终图形。
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