[发明专利]光致蚀刻剂用显影液及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201110243898.1 | 申请日： | 2011-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN102289160A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 冯卫文 | 申请（专利权）人： | 绵阳艾萨斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅 |
| 地址： | 621000 四川省绵*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种光致蚀刻剂用显影液及其制备方法与应用。该显影液包括有机碱性物质、非离子表面活性剂、式I所示聚乙二醇全氟辛酸酯和水。所述有机碱性化合物的质量占所述显影液总质量的1～15％，优选3～10％；所述非离子表面活性剂的质量占所述显影液总质量的1～10％，优选2～6％；所述式I所示聚乙二醇全氟辛酸酯的质量占所述显影液总质量的0.1-5％，优选1-2％；余量为所述水。本发明提供的显影液，无需添加消泡剂，具有显影性能好、低泡沫、无残渣、操作温度范围宽等特点的显影液，在感光性树脂的显影制备工艺中，具有广泛应用。 |
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| 搜索关键词： | 蚀刻 显影液 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种显影液，包括有机碱性化合物、非离子表面活性剂、式I所示聚乙二醇全氟辛酸酯和水，![]()
式I所述式I中，n为4-20的整数。
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