[发明专利]印刷电路板酸性蚀刻废液与微蚀废液混合处理方法有效
申请号: | 201110244786.8 | 申请日: | 2011-08-25 |
公开(公告)号: | CN102303917A | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | 石祥阁 | 申请(专利权)人: | 石祥阁 |
主分类号: | C02F1/62 | 分类号: | C02F1/62;C02F1/66;C22B7/00;C25C1/12;C02F101/20;C02F103/16 |
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地址: | 215300 江苏省昆*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种印刷电路板酸性蚀刻废液与微蚀废液混合处理方法,所述方法包括以下步骤:步骤S1:在反应釜中,向待处理的酸性蚀刻废液中添加质量体积比40%-50%的辅料氢氧化钠溶液,控制pH值在8.0~10.0,搅拌均匀,待反应完全后卸料至固液分离的压滤机系统,制备出氧化铜;步骤S2:将所述制备的氧化铜加入待处理的微蚀废液溶解,得到高含铜的硫酸铜电解液;步骤S3:对所述高含铜的硫酸铜电解液进行电解,生成高纯度金属铜。本发明印刷电路板酸性蚀刻废液与微蚀废液混合处理方法不仅处理后废水中铜含量可以达标排放,更有产生的纯度高达99.5%以上的金属铜为产品,具有明显的经济效益与社会效益。 | ||
搜索关键词: | 印刷 电路板 酸性 蚀刻 废液 混合 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种印刷电路板酸性蚀刻废液与微蚀废液混合处理方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:步骤S1:在反应釜中,向待处理的酸性蚀刻废液中添加质量体积比40%‑50%的辅料氢氧化钠溶液,控制PH值在8.0~10.0,搅拌均匀,待反应完全后卸料至固液分离的压滤机系统,制备出氧化铜;步骤S2:将所述制备的氧化铜加入待处理的微蚀废液溶解,得到高含铜的硫酸铜电解液;步骤S3:对所述高含铜的硫酸铜电解液进行电解,生成高纯度金属铜。
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