[发明专利]气体的纯化方法和气体纯化装置无效

专利信息
申请号: 201110250747.9 申请日: 2011-08-29
公开(公告)号: CN102380313A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 足立贵义;藤江和彦 申请(专利权)人: 大阳日酸株式会社
主分类号: B01D53/86 分类号: B01D53/86;B01D53/04;B01D53/62;B01D53/72;C01B23/00;C01B21/04
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 陈万青;王珍仙
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种气体纯化方法,其特征在于,具备:使原料气体与催化剂接触生成二氧化碳和水的工序;使接触所述催化剂后的所述原料气体与水分吸附剂接触而除去水的工序;使除去所述水后的所述原料气体与镍催化剂接触而除去反应残留物氧的工序;和使除去所述氧后的所述原料气体与含有0.1~10wt%钠的氧化铝接触而除去二氧化碳的工序。根据本发明,在除去包括氮气或稀有气体的原料气体中的烃类、氢、一氧化碳、二氧化碳、氧和水而纯化时,可使纯化装置小型化,可减少昂贵镍催化剂的填充量,可降低纯化成本。
搜索关键词: 气体 纯化 方法 装置
【主权项】:
一种气体纯化方法,除去包括氮气或稀有气体的原料气体中的烃类、氢、一氧化碳、二氧化碳、氧和水,其特征在于,所述气体纯化方法具备:使所述原料气体与催化剂接触,使所述烃类、氢和一氧化碳与氧化性气体反应,从而生成二氧化碳和水的工序;使接触所述催化剂之后的所述原料气体与水分吸附剂接触,从而除去水的工序;使除去所述水之后的所述原料气体与镍催化剂接触,从而除去反应残留物氧的工序;和使除去所述氧之后的所述原料气体与含有0.1~10wt%钠的氧化铝接触,从而除去二氧化碳的工序。
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