[发明专利]硅锭的铸造方法无效

专利信息
申请号: 201110254343.7 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN102953117A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 史珺;孙文彬 申请(专利权)人: 上海普罗新能源有限公司
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B28/06;C30B29/06
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 201300 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种硅锭的铸造方法,包括步骤:在坩埚中进行装料,底层原料包括多晶硅粉、中间层原料由单晶硅片拼接而成、上层原料为多晶硅料;将坩埚置于铸锭炉中并抽真空,将多晶硅粉烧结使单晶硅片固定;控制炉内的垂直温度梯度,使单晶硅片的上部部分熔化、并使多晶硅料熔化;控制炉内的垂直温度梯度,使晶粒沿着未熔化的单晶硅片向上生长并得到硅锭。本发明能提高硅锭的晶粒尺寸、提高由硅锭制成的硅电池片的光电转换效率,能降低生产成本。
搜索关键词: 铸造 方法
【主权项】:
一种硅锭的铸造方法,其特征在于,包含以下几个步骤:步骤一、在坩埚中进行装料:首先、在坩埚的底部表面铺设底层原料,所述底层原料包括多晶硅粉;其次、在所述底层原料上铺设中间层原料,所述中间层原料由多块单晶硅片拼接而成;再次、在所述中间层原料上填充上层原料,所述上层原料由多晶硅料组成;所述多晶硅料经过提纯并且根据将要形成的硅锭的目标电阻率添加了掺杂剂;步骤二、将装料后的所述坩埚置于铸锭炉中、并对所述铸锭炉抽真空;对所述坩埚的底部进行加热并到达一定温度,该温度使所述坩埚底部的所述多晶硅粉烧结、并形成烧结层;所述烧结层上面与所述单晶硅片粘结、所述烧结层的下面与所述坩埚底部粘结,从而固定住所述单晶硅片;步骤三、控制所述铸锭炉的炉内的垂直温度梯度,保持所述底层原料的所述多晶硅粉为固态,使所述单晶硅片的上部部分熔化,并使所述上层原料的所述多晶硅料熔化;步骤四、控制所述铸锭炉的炉内的垂直温度梯度,使晶粒沿着未熔化的所述单晶硅片向上生长,最后得到与所述单晶硅片相同尺寸的硅锭。
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