[发明专利]一种阻抗匹配元件有效
| 申请号： | 201110254427.0 | 申请日： | 2011-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN102956984A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 刘若鹏;季春霖;岳玉涛;尹小明 | 申请（专利权）人： | 深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司 |
| 主分类号： | H01Q15/00 | 分类号： | H01Q15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种阻抗匹配元件，其用于超材料功能层，所述阻抗匹配元件包括第一至第M层均匀阻抗匹配层以及第一至第N层渐变阻抗匹配层；所述第一至第M层均匀阻抗匹配层包括相对的两片基材以及与所述两片基材构成密封腔且对电磁波无响应的填充物，所述第一至第N层渐变阻抗匹配层包括相对的两片基材以及由周期附着于所述两片基材之间的多个人造微结构构成的金属层；所述第一均匀阻抗匹配层折射率等于空气折射率，所述第M层均匀阻抗匹配层折射率等于所述超材料功能层折射率最小值。本发明阻抗匹配元件能有效减少电磁波的反射现象，具有结构简单、便于规模化生产的有益效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阻抗匹配 元件 | ||
【主权项】：
一种阻抗匹配元件，用于超材料功能层，其特征在于：所述阻抗匹配元件包括第一至第M层均匀阻抗匹配层以及第一至第N层渐变阻抗匹配层；所述第一至第M层均匀阻抗匹配层包括相对的两片基材以及与所述两片基材构成密封腔且对电磁波无响应的填充物，所述第一至第N层渐变阻抗匹配层包括相对的两片基材以及由周期附着于所述两片基材之间的多个人造金属微结构构成的金属层；所述第一均匀阻抗匹配层折射率等于空气折射率，所述第M层均匀阻抗匹配层折射率等于所述超材料功能层折射率最小值。
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