[发明专利]电子束流功率密度分布的微分测试方法有效

专利信息
申请号: 201110254559.3 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN102436009B 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 姜嘉赢;王克鸿;周琦;彭勇;朱军 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 唐代盛
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种电子束流功率密度分布的微分测试方法,首先进行测试系统的布置;法拉第筒传感器的设计;电子束流沿平行于细缝长度方向的路径运动,为正程扫描路径,此过程采集的信号为有效信号,将用于后续处理;当电子束流完全经过细缝后逆向运动,为逆程扫描路径,此过程采集的信号为无效信号,将不予存储;重复前述步骤,使电子束流在钨片上的投影斑点从细缝的一侧运动到另一侧;设电子束流的电流密度分布函数为f(x,y),则功率密度分布函数为g(x,y)=f(x,y)·Ua;整个偏转扫描的正程扫描为n次,则会获得n个fi(x),将n个fi(x)用计算机软件绘制成电流密度分布图形,最后得到功率密度分布图形和直径。本发明不需要每次都使用新的金属试样测量功率密度分布,节约测试成本。
搜索关键词: 电子束 功率密度 分布 微分 测试 方法
【主权项】:
1.一种电子束流功率密度分布的微分测试方法,其特征在于步骤如下:1.1测试系统的布置,测试系统包括电子束焊机、能量吸收装置(5)、法拉第筒传感器(6)、工控机,电子束焊机包括电子束发射阴极(1)、聚焦线圈(3)、偏转线圈(4)、工作台(7)和焊机控制系统,电子束流(2)在电子枪中由电子束发射阴极(1)产生,聚焦线圈(3)、偏转线圈(4)同轴,聚焦线圈(3)在偏转线圈(4)上面,能量吸收装置(5)和法拉第筒传感器(6)安装在工作台(7)上,法拉第筒传感装器(6)位于电子束焊机的偏转线圈(4)正下方,能量吸收装置(5)放置在法拉第筒传感器(6)左侧并且处于同一水平线上,法拉第筒传感器(6)与工控机中的数据采集卡(8)连接;电子束流(2)经过静电聚焦后,再由电子束焊机的聚焦线圈(3)控制其聚焦状态,电子束流(2)穿过聚焦线圈(3)、偏转线圈(4),在焊机控制系统的驱动下,偏转线圈(4)控制电子束流(2)偏摆扫描,电子束流(2)发生大角度偏转至能量吸收装置(5)上;1.2法拉第筒传感器(6)的设计,法拉第筒传感器(6)上安装钨片(9),垂直于钨片(9)并在钨片(9)中心加工细缝(10),垂直移动法拉第筒传感器(6),测量不同工作距离的电子束功率密度分布图形,直径最小处为电子束焦点的位置,在整个偏转扫描过程中电子束流(2)的投影斑点(11)始终在钨片(9)的上运动,正程扫描路径(12)和逆程扫描路径(13)是位于钨片(9)表面的投影斑点(11)运动轨迹;1.3电子束流(2)沿平行于细缝(10)长度方向的路径运动,为正程扫描路径(12),当电子束流(2)在测试过程经过细缝(10),则电子束流(2)中的部分电子会进入细缝(10)被法拉第筒传感器(6)吸收,此过程采集的信号为有效信号,将用于后续处理;1.4当电子束流(2)完全经过细缝(10)后逆向运动,并在垂直于细缝(10)长度方向上步进△y,为逆程扫描路径(13),此过程中当电子束流(2)经过细缝(10)时,同样会有部分电子会进入细缝(10)被法拉第筒传感器(6)吸收,但为保证采集信号的相位关系,此过程采集的信号为无效信号,将不予存储;1.5重复步骤1.3和1.4,使电子束流(2)在钨片(9)上的投影斑点(11)从细缝(10)的一侧运动到另一侧;1.6设电子束流(2)的电流密度分布函数为f(x,y),则功率密度分布函数为g(x,y)=f(x,y)·Ua,其中Ua为电子束流(2)加速电压;细缝(10)宽度为d,由于d很小,假定在d区域内沿Y方向上的电流密度分布是均匀的,即在此区域内的电流密度分布与y无关,所以第i次正程扫描得到的电流密度分布简化为fi(x),已知电子束流(2)的偏转扫描速度为v其中It时刻进入细缝(10)的电子束流强度,Vt时刻的采集电压,R为采样电阻;1.7整个偏转扫描的正程扫描为n次,则会获得n个fi(x),将n个fi(x)用计算机软件绘制成电流密度分布图形,最后得到功率密度分布图形和直径。
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