[发明专利]成膜装置及靶装置无效
申请号: | 201110256762.4 | 申请日: | 2011-09-01 |
公开(公告)号: | CN102965627A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 岩田宽 | 申请(专利权)人: | 住友重机械工业株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王成坤;胡建新 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种成膜装置及靶装置,可提高对基板的成膜的生产率。成膜装置(1)具备作为成膜材料的靶(25)和与该靶(25)接触并进行冷却的板状冷却板(22),靶(25)和冷却板(22)通过夹具(27)固定,冷却板(22)的第2面(22b)与第1面(22a)相比暴露于高压的气氛中,并且第1面(22b)的中央部(22c)向靶(25)侧位移而按压靶(25),该第1面(22a)是与靶(25)对置的面,该第2面(22b)是第1面(22a)的相反侧的面。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
一种成膜装置,具备作为成膜材料的靶和与该靶接触并进行冷却的板状的冷却板,该成膜装置的特征在于,所述靶和所述冷却板通过夹具固定,所述冷却板的第2面与第1面相比暴露于高压的气氛中,并且所述第1面的中央部向所述靶侧位移而按压所述靶,该第1面是与所述靶对置的面,该第2面是所述第1面的相反侧的面。
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