[发明专利]基于弯曲通道二次流的气膜孔有效

专利信息
申请号: 201110262922.6 申请日: 2011-09-07
公开(公告)号: CN102312683A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 康顺;梁俊宇;王晓东;孟宝宝;翟丽娜 申请(专利权)人: 华北电力大学
主分类号: F01D5/18 分类号: F01D5/18;F02C7/18
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 张文宝
地址: 102206 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于燃气涡轮高温部件冷却技术领域,特别涉及一种基于弯曲通道二次流的气膜孔。该气膜孔包括弯曲通道段和直通道段两部分;其中,所述弯曲通道段为圆弧,是由气膜孔进口朝冷却气流的来流的方向做出弯曲而形成的。所述气膜因气膜孔的弯曲通道使冷却气流产生二次流动,所形成的通道涡离开气膜孔后,在高温气流的横向推动下发生弯曲,具有与肾型涡相反的旋向,相互作用后,能抑制肾型涡的发展,减弱它的强度,提高气膜对壁面的贴附能力,增加气膜冷却效率。另一方面,因为通道涡的存在,冷却气流在气膜孔的出口处具有更高的展向速度,能增加气膜的覆盖宽度。
搜索关键词: 基于 弯曲 通道 二次 气膜孔
【主权项】:
基于弯曲通道二次流的气膜孔,其特征在于,该气膜孔包括弯曲通道段(4)和直通道段(5)两部分;其中,所述弯曲通道段(4)为圆弧,是由气膜孔进口(3)朝冷却气流的来流的方向做出弯曲而形成的,弯曲通道段(4)的圆心角B的范围为10°至90°,弯曲通道段(4)的轴线的曲率半径R大于或等于所处位置的壁厚;所述直通道段(5)与气膜表面之间形成的射流倾角A的范围为30°至120°;所述气膜孔的弯曲通道使冷却气流产生二次流动,所形成的通道涡离开气膜孔后,在高温气流的横向推动下发生弯曲,具有与肾型涡相反的旋向,提高冷却效率。
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