[发明专利]用于光刻设备的预对准装置及方法有效
| 申请号： | 201110264091.6 | 申请日： | 2011-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN102981380A | 公开（公告）日： | 2013-03-20 |
| 发明（设计）人： | 蓝科;杜聚有;徐荣伟 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻设备的预对准装置，包括：照明光源，用于提供一准直光束；分光光学单元，用于将该光束形成两束准直光；光栅单元，该光栅单元经该两束准直光照射后形成两组莫尔条纹；光学探测矩阵，用于探测该莫尔条纹；该光栅单元包括两组圆形光栅，每组圆形光栅均包括第一圆形光栅及第二圆形光栅。本发明同时公开一种用于光刻设备的预对准方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 对准 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的预对准装置，包括：照明光源，用于提供一准直光束；分光光学单元，用于将所述光束形成两束准直光；光栅单元，所述光栅单元经所述两束准直光照射后形成两组莫尔条纹；光学探测矩阵，用于探测所述莫尔条纹；其特征在于，所述光栅单元包括两组圆形光栅，每组圆形光栅均包括第一圆形光栅及第二圆形光栅。
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