[发明专利]一种解决高磷浓度PSG薄膜表面雾状颗粒的工艺方法有效
| 申请号： | 201110265302.8 | 申请日： | 2011-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN102417306A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 顾梅梅;王科;陈建维;张旭升 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明一种解决高磷浓度PSG薄膜表面雾状颗粒的工艺方法，其中，主要包括以下步骤：在反应腔室内的等离子体环境中通入氧气，使所述等离子体与氧气混合，利用等离子体的能量，使得氧气与PSG薄膜中的不稳定的磷原子发生反应，形成位于PSG薄膜表面的一层钝化膜，以防止PSG薄膜中磷与空气中的氢、氧反应。发明一种解决高磷浓度PSG薄膜表面雾状颗粒的工艺方法，有效的使在反应腔室中通入氧气使高密度等离子体与氧气混合，达到磷硅玻璃4的表面形成钝化膜，阻断水气与硼、磷接触造成结晶。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 解决 浓度 psg 薄膜 表面 雾状 颗粒 工艺 方法 | ||
【主权项】：
一种解决高磷浓度PSG薄膜表面雾状颗粒的工艺方法，其特征在于，主要包括以下步骤： 在反应腔室内的等离子体环境中通入氧气，使所述等离子体与氧气混合，利用等离子体的能量，使得氧气与PSG薄膜中的不稳定的磷原子发生反应，形成位于PSG薄膜表面的一层钝化膜，以防止PSG薄膜中磷与空气中的氢、氧发生反应。
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