[发明专利]光掩膜版用方形石英玻璃基片的制备方法无效
申请号: | 201110266100.5 | 申请日: | 2011-09-08 |
公开(公告)号: | CN102320724A | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
发明(设计)人: | 王友军;孔敏;徐驰;王佳佳;向在奎;王鑫 | 申请(专利权)人: | 北京金格兰石英玻璃有限公司 |
主分类号: | C03B20/00 | 分类号: | C03B20/00 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;赵镇勇 |
地址: | 100024 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种光掩膜版用方形石英玻璃基片的制备方法,首先,以SiCl4为原料合成高纯不规则的石英玻璃圆柱形坨体;然后,将所述不规则的石英玻璃圆柱形坨体放在真空加压炉内进行槽沉均化、精密退火,制成方形坨体;之后,将所述方形坨体经切割、研磨、抛光制成石英玻璃基片。既能节约原材料同时又可提高材料光学均匀性和内在质量。 | ||
搜索关键词: | 光掩膜版用 方形 石英玻璃 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种光掩膜版用方形石英玻璃基片的制备方法,其特征在于,包括步骤:首先,以SiCl4为原料合成高纯圆柱形石英玻璃坨体;然后,将所述圆柱形石英玻璃坨体放在真空加压炉内进行槽沉均化、精密退火,制成方形坨体;之后,将所述方形坨体经切割、研磨、抛光制成石英玻璃基片。
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