[发明专利]基于Abbe矢量成像模型获取非理想光刻系统空间像的方法

摘要

本发明公开了一种基于Abbe矢量成像模型获取非理想光刻系统空间像的方法，具体步骤为将掩模图形M栅格化为N×N个子区域；并根据部分相干光源的形状将光源面栅格化成多个点光源，用每一栅格区域的中心点坐标(xs，ys)表示该栅格区域所对应的点光源坐标；计算各点光源照明时非理想光刻系统中晶片位置上的空间像I(αs，βs)；并根据阿贝Abbe方法，对各点光源对应的空间像I(αs，βs)进行叠加，获取部分相干光源照明时非理想光刻系统中晶片位置上的空间像I。本发明能够将光源面栅格化成多个点光源，并具备分析光刻投影系统标量像差、偏振像差和光刻系统离焦参数等功能。因此该方法获取的空间像精确度高，该方法可有效的应用于分辨率增强技术优化方法的研究。

主权项

一种基于Abbe矢量成像模型的获取非理想光刻系统空间像的方法，其特征在于，具体步骤为：步骤101、将掩膜图形M栅格化为N×N个子区域；步骤102、根据部分相干光源的形状将光源面栅格化成多个点光源，用每一栅格区域中心点坐标(xs，ys)表示该栅格区域所对应的点光源坐标；步骤103、根据光刻系统的离焦量δ，获取由所述离焦量δ引起的光刻系统中传播光线的相位变化量ξ(α′，β′)；步骤104、获取表示光刻系统光程差的标量像差矩阵W(α′，β′)和表示光刻系统偏振像差的偏振像差矩阵J(α′，β′)，其中(α′，β′，γ′)是晶片上全局坐标系进行傅立叶变换后的坐标系；步骤105、针对单个点光源，利用其坐标(xs，ys)、入射光相位的变化量ξ(α′，β′)、标量像差矩阵W(α′，β′)及偏振像差矩阵J(α′，β′)，获取该点光源照明时，非理想光刻系统中晶片位置上的空间像I(αs，βs)；步骤106、判断是否已经计算出所有单个点光源照明时，非理想光刻系统中晶片位置上的空间像，若是，则进入步骤107，否则返回步骤105；步骤107、根据Abbe方法，对各点光源对应的空间像I(αs，βs)进行叠加，获取部分相干照明时，晶片位置上的空间像I。