[发明专利]基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法

摘要

本发明提供一种基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法，具体步骤为将掩模图形M栅格化为N×N个子区域；并根据部分相干光源的形状将光源面进行栅格化成多个点光源，用每一栅格区域中心点坐标(xs，ys)表示该栅格区域所对应的点光源坐标；计算各点光源对应像面上掩膜空间像I(αs，βs)；并根据阿贝Abbe方法，对各点光源的掩模空间像I(αs，βs)进行叠加，获取部分相干光源对应像面位置掩膜空间像I。本发明能够将光源面栅格化成多个点光源，针对于各点光源其计算的掩膜空间像的精确度高，该方法可适应不同面形的光源。

主权项

一种基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法，其特征在于，具体步骤为：步骤101、将掩膜图形M栅格化为N×N个子区域；步骤102、根据部分相干光源的形状将光源面栅格化成多个点光源，用每一栅格区域中心点坐标(xs，ys)表示该栅格区域所对应的点光源坐标；步骤103、针对单个点光源，利用其坐标(xs，ys)获取该点光源照明时对应晶片位置上的空间像I(αs，βs)；步骤104、判断是否已经计算出所有点光源对应晶片位置上的空间像，若是，则进入步骤105，否则返回步骤103；步骤105、根据阿贝Abbe方法，对各点光源对应的空间像I(αs，βs)进行叠加，获取部分相干光源照明时，晶片位置上的空间像I。