[发明专利]大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机有效
| 申请号： | 201110268847.4 | 申请日： | 2011-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN102994965A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 刘晓波;韩大凯;赵军;饶敏;徐丽云 | 申请（专利权）人： | 核工业西南物理研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 核工业专利中心 11007 | 代理人： | 高尚梅 |
| 地址： | 610041 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及高真空连续卷绕镀膜机技术领域，具体公开了一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机。该设备包括圆形真空室、柔性基材卷绕系统以及磁控溅射源圆形真空室由隔离板分隔成放卷区、前处理区、收卷区以及镀膜区；柔性基材卷绕系统中的冷鼓冷鼓伸入与冷鼓外壁相匹配的半圆环镀膜区的内环壁中，过辊机构保证基材从基材放卷，经过冷鼓进入基材收卷；磁控溅射源中的溅射源，从与柔性基材卷绕系统相对的方向伸入到圆形真空室中镀膜区对经过冷鼓的基材进行镀膜。该镀膜机能够一次完成多层膜系的镀膜，且不易使塑料基材起皱；同时，圆形真空室固定，柔性基材卷绕系统和磁控溅射源分别从两侧伸入或拖出到圆形真空室的结构，使设备操作维护方便。 | ||
| 搜索关键词： | 大面积 柔性 基材 磁控溅射 卷绕 镀膜 | ||
【主权项】：
一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：包括圆形真空室、柔性基材卷绕系统以及磁控溅射源，其中，圆形真空室固定，柔性基材卷绕系统和磁控溅射源可以分别从圆形真空室的两侧伸入或拖出圆形真空室，圆形真空室由隔离板(8)分隔成放卷区(1)、前处理区(2)以及收卷区(3)，且这三个区都单独通过真空阀门(7)与扩散泵(6)连接，在收卷区(3)中还设有半圆环空腔状的镀膜区(4)，其位于圆形真空室下方中部的，并分隔成若干个单独的空腔，且每个空腔都单独连接有分子泵(5)；柔性基材卷绕系统包括冷鼓(10)、基材放卷(15)、基材收卷(17)以及过辊机构，其中，冷鼓(10)伸入与冷鼓(10)外壁相匹配的半圆环镀膜区(4)的内环壁中，在放卷区(1)和收卷区(3)左右对称设有基材放卷(15)与基材收卷(17)，在基材放卷(15)、冷鼓(10)以及基材收卷(17)附近设有过辊机构，可以实现基材从基材放卷(15)经过冷鼓(10)后进入基材收卷(17)，磁控溅射源包括若干个与镀膜区空腔相对应的溅射源(11)，并从与柔性基材卷绕系统相对的方向伸入到圆形真空室中镀膜区(4)相对应的若干个独立空腔中，对经过冷鼓(10)的基材进行镀膜。
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