[发明专利]膜厚控制方法及装置无效
| 申请号： | 201110270265.X | 申请日： | 2011-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN102965644A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 林信宏 | 申请（专利权）人： | 力铼光电科技(扬州)有限公司 |
| 主分类号： | C23C18/00 | 分类号： | C23C18/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 赵根喜;冯志云 |
| 地址： | 225131 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种膜厚控制方法及膜厚控制装置，所述膜厚控制方法用于膜处理工艺中的膜厚控制，所述膜厚控制方法包括步骤：在进行所述膜处理工艺的膜处理容器的不同区域设置能够影响所述膜处理容器内不同区域的所述膜处理工艺反应温度的多个加热器；在进行所述膜处理工艺时，通过所述多个加热器，将各所述不同区域的反应温度提升至各自的温度预设值；获得所述膜处理工艺后的所述不同区域的膜厚数据，根据所述膜厚数据与目标膜厚的差距调整所述不同区域的温度预设值。本发明能够获得较佳的膜厚均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种膜厚控制方法，用于膜处理工艺中的膜厚控制，其特征在于，所述膜厚控制方法包括步骤：步骤S1：在进行所述膜处理工艺的膜处理容器的不同区域设置能够影响所述膜处理容器内不同区域的所述膜处理工艺反应温度的多个加热器；步骤S2：在进行所述膜处理工艺时，通过所述多个加热器，将各所述不同区域的反应温度提升至各自的温度预设值；步骤S3：获得所述膜处理工艺后的所述不同区域的膜厚数据，根据所述膜厚数据与目标膜厚的差距调整所述不同区域的温度预设值。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
