[发明专利]荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法有效
申请号: | 201110270780.8 | 申请日: | 2011-08-31 |
公开(公告)号: | CN102384924A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | 长谷川清;一宫丰;泷口英树 | 申请(专利权)人: | 精工电子纳米科技有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;王忠忠 |
地址: | 日本千叶*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供作业效率高且安全地进行试样测定的荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法。荧光X射线分析装置(100)包括:放射线源(2),对试样(S)上的照射点(P1)照射放射线;X射线检测器(3);移动机构(8),能将试样相对于放射线源和X射线检测器移动;壳体(10);门(20),开关试样进出壳体内外的开口(10a);高度测定机构(7),能测定照射点的高度;移动机构控制部(9),基于测定的照射点高度调整试样到放射线源及X射线检测器的距离;激光部(7),对照射点照射可见光激光;激光部工作控制部(9),门为开状态时,使激光部工作以照射可见光激光,且门为关状态时,停止激光部;以及高度测定机构工作控制部(9),门为开状态时,使高度测定机构工作以测定照射点高度。 | ||
搜索关键词: | 荧光 射线 分析 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种荧光X射线分析装置,其特征在于,包括:放射线源,对试样上的照射点照射放射线;X射线检测器,检测所述试样放出的特征X射线和散射X射线,且输出含有该特征X射线和散射X射线的能量信息的信号;分析器,分析所述信号;试样台,放置所述试样;移动机构,能够将所述试样台上的所述试样相对于所述放射线源和所述X射线检测器移动;壳体,至少收容所述放射线源、所述试样台以及所述移动机构;门,开关用于所述试样进出所述壳体内外的开口;高度测定机构,能够测定所述试样上的所述照射点的高度;移动机构控制部,基于测定的所述照射点的高度使所述移动机构工作,调整所述试样到所述放射线源及所述X射线检测器的距离;激光部,以可见光激光照射所述照射点;门开关探测部,探测所述门的开关状态;激光部工作控制部,当利用所述门开关探测部探测到所述门为开状态时,使所述激光部工作以照射所述可见光激光,且当利用所述门开关探测部探测到所述门为关状态时,停止所述激光部;以及高度测定机构工作控制部,当利用所述门开关探测部探测到所述门为开状态时,使所述高度测定机构工作以测定所述照射点的高度。
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