[发明专利]一种直流等离子体喷射法制得的金刚石厚膜有效
| 申请号： | 201110271933.0 | 申请日： | 2011-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102994973A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 李建林;邹泽宏;宫云霞 | 申请（专利权）人： | 河南飞孟金刚石工业有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/503;C23C16/513 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 454763 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种直流等离子体喷射法制得的金刚石厚膜，其直径大于120mm，厚度大于1mm，该厚膜采用下列生产工艺制得，具体步骤为：准备基材；基材表面预处理；金刚石沉积：采用150千瓦直流电弧等离子喷射设备在基材表面沉积金刚石，在1180℃高温和105Pa高气压下，氩气、氢气和甲烷按照体积比10～20：5～9：1～6充分混合，以20～40l/min的流速在基材表面进行沉积金刚石，金刚石的沉积速度为0～20微米/小时；金刚石表面处理；金刚石激光切割；产品检验；产品包装。采用该技术方案后，生产出来的金刚石厚膜质量稳定，表面晶粒大小均匀，无肉眼可见裂纹，硬度、密度、透光性和天然金刚石极为接近。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 直流 等离子体 喷射 法制 金刚石 | ||
【主权项】：
一种直流等离子体喷射法制得的金刚石厚膜，其特征在于：厚膜直径大于120mm，厚度大于1mm，该厚膜采用下列生产工艺制得，具体步骤为：准备基材；基材表面预处理；金刚石沉积：采用150千瓦直流电弧等离子喷射设备在基材表面沉积金刚石，在1180℃高温和105Pa高气压下，氩气、氢气和甲烷按照体积比10～20：5～9：1～6充分混合，以20～40 l/min的流速在基材表面进行沉积金刚石，金刚石的沉积速度为0～20微米/小时；金刚石表面处理；金刚石激光切割；产品检验；产品包装。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
