[发明专利]离子源、系统和方法有效
| 申请号： | 201110273451.9 | 申请日： | 2006-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN102324365A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 比利.W.沃德;约翰.A.诺特四世;路易斯.S.法卡斯三世;兰德尔.G.珀西瓦尔;雷蒙德.希尔;拉斯.马克沃特;德克.阿德霍尔德 | 申请（专利权）人： | 阿利斯公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/26;B82Y10/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本申请公开了一种离子源、系统和方法。该系统包括：气体场离子源，能够与气体相互作用从而产生与样品相互作用的离子束，从而引起二次离子离开所述样品；至少一探测器，被配置使得在使用期间，所述至少一探测器可以探测至少一些所述二次离子；电子处理器，电连接至所述至少一探测器，使得在使用期间，所述电子处理器可以根据所述被探测的二次离子而处理信息，以便确定所述样品的信息；其中所述离子束在所述样品的表面具有10nm或更小的尺寸的斑点尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种系统，包括：气体场离子源，能够与气体相互作用从而产生与样品相互作用的离子束，从而引起二次离子离开所述样品；至少一探测器，被配置使得在使用期间，所述至少一探测器可以探测至少一些所述二次离子；以及电子处理器，电连接至所述至少一探测器，使得在使用期间，所述电子处理器可以根据所述被探测的二次离子而处理信息，以便确定所述样品的信息；其中所述离子束在所述样品的表面具有10nm或更小的尺寸的斑点尺寸。
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