[发明专利]可提高工艺效率的薄膜制作方法

摘要

本发明提供一种可提高工艺效率的薄膜制造方法，包括步骤：提供{111}方向的硅基底，其上形成有阻挡层；刻蚀阻挡层和硅基底，在硅基底中形成多个浅槽，浅槽具有第一深度；在多个浅槽的侧壁形成侧壁保护层；进一步刻蚀多个浅槽，在硅基底中形成多个深槽，深槽相比浅槽加深第二深度；采用湿法腐蚀法腐蚀多个深槽，在硅基底内部形成腔体；采用填充材料将多个浅槽完全填充，形成封闭的腔体和位于腔体之上的薄膜；其中，薄膜上深槽的窗口具有多列，其排列方式包括平行排列、交叉排列和/或波浪排列。本发明通过一系列推导和计算，得到不同形状薄膜所对应的最优化钻蚀窗口的图形排列，进而方便地获得厚度和形状精确可控的薄膜，提高工艺效率，降低制作成本。

主权项

一种可提高工艺效率的薄膜制造方法，包括步骤：提供{111}方向的硅基底(101)，其上形成有阻挡层(102)；刻蚀所述阻挡层(102)和所述硅基底(101)，在所述硅基底(101)中形成多个浅槽(103)，所述浅槽(103)具有第一深度(h1)；在多个所述浅槽(103)的侧壁形成侧壁保护层(104)；进一步刻蚀多个所述浅槽(103)，在所述硅基底(101)中形成多个深槽(105)，所述深槽(105)相比所述浅槽(103)加深第二深度(h2)；采用湿法腐蚀法腐蚀多个所述深槽(105)，在所述硅基底(101)内部形成腔体(106)；采用填充材料(107)将多个所述浅槽(103)完全填充，形成封闭的腔体(106)和位于所述腔体(106)之上的薄膜；其中，所述薄膜上深槽(105)的窗口具有多列，其排列方式包括平行排列、交叉排列和/或波浪排列。