[发明专利]一种制备图案化石墨烯薄膜的方法及石墨烯薄膜有效
| 申请号： | 201110274442.1 | 申请日： | 2011-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102701600A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 张锋;戴天明;姚琪;刘志勇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/22 | 分类号： | C03C17/22;C08J7/06 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;姜精斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种制备图案化石墨烯薄膜的方法及石墨烯薄膜。其中所述方法包括：在衬底上形成预定图案的氧化石墨烯溶液的浸润区，并在所述衬底上的浸润区之外的区域形成氧化石墨烯溶液的不浸润区；在所述衬底上涂覆氧化石墨烯溶液，以在所述氧化石墨烯溶液的浸润区形成氧化石墨烯薄膜；对所述氧化石墨烯薄膜进行还原处理，得到所述预定图案的石墨烯薄膜。本发明能够简化图案化石墨烯薄膜的制备，并降低制备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 图案 化石 薄膜 方法 石墨 | ||
【主权项】：
一种制备图案化石墨烯薄膜的方法，其特征在于，包括：在衬底上形成预定图案的氧化石墨烯溶液的浸润区，并在所述衬底上的浸润区之外的区域形成氧化石墨烯溶液的不浸润区；在所述衬底上涂覆氧化石墨烯溶液，以在所述氧化石墨烯溶液的浸润区形成氧化石墨烯薄膜；对所述氧化石墨烯薄膜进行还原处理，得到所述预定图案的石墨烯薄膜。
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