[发明专利]离子真空镀膜方法与装置无效
| 申请号： | 201110274961.8 | 申请日： | 2011-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN102321869A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 王敬达 | 申请（专利权）人： | 王敬达 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人： | 陈建和 |
| 地址： | 214100 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 离子真空镀膜方法，靶材的两端均施加独立工作的弧源电源，每个弧源电源分别进行电压高低或弧源电流大小的控制，即弧源电源电压高低或弧源电流大小的的变化分别施加于靶材的两端。每只弧源电源均以相同周期的方式进行电流大小的强弱变化控制，且靶材一端弧源电源电压最高或电流最大时，靶材另一端施加的弧源电源电压低。本发明用圆柱形实心靶材，四周的离子束发散均匀，经施加的电压自动进行均匀速度的控制，电弧均匀移动，上述缺点均可以克服，保证在需要功能性离子镀层的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 真空镀膜 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种离子真空镀膜方法，其特征是靶材的两端均施加独立工作的弧源电源，每个弧源电源分别进行电压高低或弧源电流大小的控制，即弧源电源电压高低或弧源电流大小的的变化分别施加于靶材的两端。
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