[发明专利]氮化镓基Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体LED外延片及其生长方法以及包括其的LED显示装置有效
申请号: | 201110275496.X | 申请日: | 2011-09-16 |
公开(公告)号: | CN102427103A | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 余小明;梁智勇;苗振林 | 申请(专利权)人: | 湘能华磊光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;C23C16/34;C30B25/02;C30B25/18;C30B29/38 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;余刚 |
地址: | 423038 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种氮化镓基III-V族化合物半导体LED外延片及其生产方法以及包括其的LED显示装置,该LED外延片包括顺序生长的第一垒层、低掺杂In的高温量子阱层,以及高掺杂In的低温量子阱层,低掺杂In的高温量子阱层中包括高温阱层和高温垒层;高掺杂In的低温量子阱层包括预覆盖层、低温阱层以及低温垒层,预覆盖层包括预覆盖阱层和预覆盖垒层。该LED外延片通过形成预覆盖层,可诱导随后在预覆盖层上生长的量子阱更加容易形成量子点,所以阱里面量子点的数量增加,量子阱局域化程度更强,对电子束缚能力更强,增加了电子和空穴的复合概率,增加了外延片的内部量子效应,减少了大电流下发生DROOP效应。 | ||
搜索关键词: | 氮化 化合物 半导体 led 外延 及其 生长 方法 以及 包括 显示装置 | ||
【主权项】:
一种氮化镓基III‑V族化合物半导体LED外延片,包括顺序生长的第一垒层(4)、低掺杂In的高温量子阱层(5),以及高掺杂In的低温量子阱层(6),所述高温量子阱层(5)中包括一组或多组按顺序循环生长的高温阱层和高温垒层;所述低温量子阱层(6)包括一组或多组按顺序循环生长的预覆盖层(61)、低温阱层(62)以及低温垒层(63),其特征在于,所述预覆盖层(61)包括一组或多组按顺序循环生长的掺杂In的预覆盖阱层(611)和不掺杂In的预覆盖垒层(613)。
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