[发明专利]通过扫描实现高精度灰度曝光的方法有效
| 申请号： | 201110276577.1 | 申请日： | 2011-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN102323726A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 李显杰;彭丹花 | 申请（专利权）人： | 合肥芯硕半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/10 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 方琦 |
| 地址： | 230601 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了通过扫描实现高精度灰度曝光的方法，包括有使用空间光调制器(SLM，SpatialLightModulator)作为图形发生器的无掩模光刻系统，通过FPGA实现空间光调制器中扫描运动方向上的一行1024个微镜各代表一个灰度，即实现1024级灰阶的灰度，在基底的扫描曝光过程中，由精密平台控制基底沿扫描运动方向匀速运动，所述空间光调制器上扫描运动方向上一行的每个微镜从头至尾依次间隔相同的单位时间各翻转一次，所述的单位时间为基底移动一个微镜距离所需的时间；当基底扫描过一行1024个微镜后，经过1024个微镜的灰度组合累加，实现高精度的灰度曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 扫描 实现 高精度 灰度 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种通过扫描实现高精度灰度曝光的方法，包括有使用空间光调制器(SLM，Spatial Light Modulator)作为图形发生器的无掩模光刻系统，其特征在于通过FPGA实现空间光调制器中扫描运动方向上的一行1024个微镜各代表一个灰度，即实现1024级灰阶的灰度，在基底的扫描曝光过程中，由精密平台控制基底沿扫描运动方向匀速运动，所述空间光调制器上扫描运动方向上一行的每个微镜从头至尾依次间隔相同的单位时间各翻转一次，所述的单位时间为基底移动一个微镜距离所需的时间；当基底扫描过一行1024个微镜后，经过1024个微镜的灰度组合累加，实现高精度的灰度曝光。
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