[发明专利]一种制备多晶硅太阳电池绒面的方法及其装置无效

专利信息
申请号: 201110277861.0 申请日: 2011-09-19
公开(公告)号: CN102324447A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 张华;花国然;居志兰;王强 申请(专利权)人: 南通大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;B23K26/36;C25F3/12
代理公司: 南京汇盛专利商标事务所(普通合伙) 32238 代理人: 吴静安
地址: 226019 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种制备多晶硅太阳电池绒面的方法及其装置,其方法是用激光和电化学同时对多晶硅片进行复合加工,在多晶硅片加工表面形成阵列光陷阱结构,同时电解液对多晶硅片表面产生电化学腐蚀,光整加工表面。实现上述方法的装置包括激光器5和电解机构15、电源1和工作台11;电解机构15主要由电解槽底座13、电解槽盖板4、阴极8、阳极12、工件安装夹具14、密封圈10和光学防护镜7组成,多晶硅片置于电解槽中,且将电解槽分为二室,从而使得多晶硅片成为电解时的唯一电流通道。本发明提供了一种多晶硅太阳电池的高效绒面新加工方法,其产品具有高重复性、良好高宽比性能,可获优于纯化学腐蚀制备绒面的减反射效果,对提高光电转换效率有重要作用。
搜索关键词: 一种 制备 多晶 太阳电池 方法 及其 装置
【主权项】:
一种制备多晶硅太阳电池绒面的方法,其特征在于,将多晶硅片置于电解槽中,且使多晶硅片为电解时的唯一电流通道,用聚焦激光束对多晶硅片表面进行扫描,同时进行电解,激光束的扫描使多晶硅片表面形成阵列光陷阱结构,电解液对多晶硅片表面产生电化学腐蚀,光整加工表面。
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