[发明专利]提高纳米PET薄膜表面亲水性的制备方法有效
申请号: | 201110278863.1 | 申请日: | 2011-09-20 |
公开(公告)号: | CN102367571A | 公开(公告)日: | 2012-03-07 |
发明(设计)人: | 张波;朱葛俊;陆建军;虞文武;沈俊;姜清;张小培 | 申请(专利权)人: | 常州机电职业技术学院 |
主分类号: | C23C16/509 | 分类号: | C23C16/509 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 贾海芬 |
地址: | 213164 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种提高纳米PET薄膜表面亲水性的制备方法,将表面清洗后的纳米PET薄膜放在射频等离子体发生器内,常温在氩气或氩气与氦气的混合气体的条件下进行辉光放电,其工作真空度控制在20~45Pa,时间控制在3~5.5min,将改性后的纳米PET薄膜表面暴露于空气中,经24~84小时的时效处理,再将纳米PET薄膜放置射频等离子体发生器,常温在氩气或氩气与氦气混合气体的条件下进行辉光放电,工作真空度控制在10~35Pa,时间控制在5~7.5min。经本发明处理后的PET薄膜表面亲水性的均匀性好,具有性能重复性好,制备工艺简单,生产效率高的特点。 | ||
搜索关键词: | 提高 纳米 pet 薄膜 表面 亲水性 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种提高纳米PET薄膜表面亲水性的制备方法,其特征在于:将表面清洗后的纳米PET薄膜放在射频等离子体发生器的发生腔两电极中间,且纳米PET薄膜两表面分别与两电极距离控制在5~30cm,发生腔内的本底真空度控制在5~10Pa,常温在氩气或氩气与氦气的混合气体的条件下进行辉光放电,辉光放电时的工作真空度控制在20~45Pa,放电时间控制在3~5.5min,对纳米PET薄膜表面进行第一次改性,第一次改性后的纳米PET薄膜表面接触角60°~80°,表面张力可达到≥34mN/m。;将第一次改性后的纳米PET薄膜表面暴露于空气中,经24~84小时的时效处理,再将纳米PET薄膜放置射频等离子体发生器的发生腔内的两电极中间,纳米PET薄膜的两表面分别与两电极距离控制在20~45cm,发生腔内的本底真空度控制在1~6P,常温在氩气或氩气与氦气混合气体的条件下进行辉光放电,辉光放电时的工作真空度控制在10~35Pa,放电时间控制在5~7.5min,对纳米PET薄膜表面进行第二次改性,第二次改性后的纳米PET薄膜表面接触角30°~55°,表面张力可达到≥38mN/m。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的