[发明专利]一种有序介孔孔道构成的纳米囊状材料及其制备方法无效
| 申请号： | 201110279463.2 | 申请日： | 2011-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN102502658A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 张海东;申渝;郑旭煦 | 申请（专利权）人： | 重庆工商大学 |
| 主分类号： | C01B33/12 | 分类号： | C01B33/12;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 400067 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出一种有序介孔孔道构成的纳米囊状材料及其制备方法。本发明提出的纳米囊状材料，其特征在于具有有序介孔孔道构成的囊壁；构成囊壁的有序介孔孔道伸展方向与粒子长轴方向垂直；有序介孔孔道具有p6mm对称性；典型孔道长度在200-500nm之间；平均孔径为12nm。我们记其为CTBU-2。本发明提出的纳米囊状材料，其制备方法特征在于以有机硅（TEOS）为硅源，以嵌段式非离子表面活性剂（PluronicP123）为结构导向剂，以正癸烷为结构添加剂，以氟化铵（NH4F）为合成添加剂，在酸性条件下合成；在进行有机硅源的水解之前先将表面活性剂溶液静置分层，去除上层液相体系，有机硅源加入下层液相体系水解。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 有序 孔道 构成 纳米 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种有序介孔孔道构成的纳米囊状材料，其特征在于化学成分为氧化硅，具有有序介孔孔道构成的囊壁；构成囊壁的有序介孔孔道伸展方向与粒子长轴方向垂直；有序介孔孔道具有p6mm对称性；典型孔道长度在200‑500 nm之间；平均孔径为12 nm；其制备是以有机硅为硅源，以嵌段式非离子表面活性剂为结构导向剂，以烷烃为结构添加剂，以氟化铵（NH4F）为合成添加剂，在酸性条件下合成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆工商大学，未经重庆工商大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110279463.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种中药材黄芩增产种植方法
- 下一篇：一种工程机械支腿和一种工程机械
