[发明专利]具有掩模交接保护功能的掩模台、方法及光刻设备有效
| 申请号： | 201110282348.0 | 申请日： | 2011-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN103019035A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 江旭初;李生强;董俊清;徐涛 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种具有掩模交接保护功能的掩模台，设置在一基台上，包括：运动台，承载掩模；驱动机构，驱动运动台相对基台运动；一掩模交接保护模块，包括固定在基台上的固定装置以及固定连接承片台的定位装置，所述固定装置设有一可动的锁紧部，该锁紧部连接所述定位装置时固定所述承片台。本发明同时公开一种使用该具有交接保护功能的掩模台的方法及一种光刻设备。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 交接 保护 功能 掩模台 方法 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种具有掩模交接保护功能的掩模台，设置在一基台上，其特征在于，包括：运动台，承载掩模；驱动机构，驱动运动台相对基台运动；一掩模交接保护模块，包括固定在基台上的固定装置以及固定连接承片台的定位装置，所述固定装置设有一可动的锁紧部，该锁紧部连接所述定位装置时固定所述承片台。
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