[发明专利]一种PECVD真空腔体间内置封合装置无效
申请号: | 201110282542.9 | 申请日: | 2011-09-22 |
公开(公告)号: | CN103014657A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 周文彬;刘幼海;刘吉人 | 申请(专利权)人: | 吉富新能源科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201707 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明系提供一种PECVD真空腔体间内置封合装置,通过外部气压缸带动齿轮组,使齿轮组在一定范围内旋转,又齿轮组连接一连杆,连赶上设置有致动块,用以锁固真空封合板,使封合板能随齿轮组旋转做90度的上下开合动作,达到真空腔体间的封合,本发明结构简单,安装容易,且完全不需电动力进行封合板的驱动,对于后续使用的可靠度相当高,又同时设置于真空腔体内,不需额外在制作一小腔体放置封合装置,大幅减少真空溅镀线的产线总长度,大幅减少设备投入成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 空腔 内置 装置 | ||
【主权项】:
一种PECVD真空腔体间内置封合装置,其特徵在于一气压缸11、直向移动齿轮12、圆形齿轮13、连杆14、封合板致动片15、封合板16、封合板密封圈17及连杆固定座18所组成。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的