[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110285507.2 申请日: 2011-09-23
公开(公告)号: CN102420180A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 具俊谟;P.C.马里穆图;J.H.库;S.W.雍 申请(专利权)人: 新科金朋有限公司
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L23/48;H01L23/538
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘春元;王忠忠
地址: 新加坡*** 国省代码: 新加坡;SG
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摘要: 发明涉及半导体器件及其制造方法。一种半导体器件包括具有第一和第二相对表面的衬底。多个导电通孔被形成为部分地穿过衬底的第一表面。第一导电层形成在衬底的第一表面上,并电连接到导电通孔。第一半导体管芯被安装到衬底的第一表面上。第一半导体管芯和衬底被安装到载体。密封剂被沉积在第一半导体管芯、衬底和载体上。衬底的第二表面的一部分被除去以暴露导电通孔。互连结构被形成在衬底的第二表面上,与第一半导体管芯相对。第二半导体管芯可以被堆叠在第一半导体管芯上。第二半导体管芯可以被安装到衬底的第一表面上,与第一半导体管芯相邻。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种制作半导体器件的方法,包括:提供具有第一和第二相对表面的衬底;形成多个部分地穿过衬底的第一表面的导电通孔;在衬底的第一表面上形成电连接到导电通孔的第一导电层;在衬底的第一表面上安装电连接到第一导电层的第一半导体管芯;提供载体;将第一半导体管芯和衬底安装到载体;在第一半导体管芯、衬底、和载体上沉积密封剂;除去衬底的第二表面的一部分以暴露导电通孔;以及在衬底的表面上形成与第一半导体管芯相对的互连结构。
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