[发明专利]硬X射线微聚焦高级次多层膜Laue透镜有效
| 申请号： | 201110287085.2 | 申请日： | 2011-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN103021496A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 黄秋实;朱京涛;李浩川;王占山 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 叶敏华 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及硬X射线微聚焦高级次多层膜Laue透镜，通过改变组成多层膜Laue透镜局部光栅的2种材料的厚度比(γ＝dA/(dA+dB)，A为吸收层，B为间隔层)，选择合适的截面深度t，极大的提高高级次衍射的效率，从而有效的利用高级次衍射光，进一步提高硬X射线的聚焦分辨率。与传统的多层膜Laue透镜相比，本发明提出利用Laue透镜的高级次衍射对硬X射线进行聚焦，并通过改变Laue透镜结构中不同材料的厚度比，克服了传统波带片高级次衍射效率低下的问题，是实现高效率纳米级硬X射线聚焦的有效方法。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 聚焦 级次 多层 laue 透镜 | ||
【主权项】：
硬X射线微聚焦高级次多层膜Laue透镜，其特征在于，该Laue透镜由吸收层和间隔层周期性构成，其中所述吸收层的材料是局部光栅中的高原子序数材料A，间隔层材料是低原子序数材料B。
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