[发明专利]一种AC LED芯片的制备方法有效
申请号: | 201110288041.1 | 申请日: | 2011-09-26 |
公开(公告)号: | CN103022276A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 陈万世 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L27/15 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518118 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种ACLED芯片的制备方法,通过先在相邻微晶的负极和正极之间沉积微晶连线,同时在芯片正负电极上实现预沉积,即在芯片正负电极上也预先沉积与微晶连线相同的材料;然后在预沉积的芯片正负电极处利用化学还原镀金的方法沉积金,因为化学还原镀金只有在金的表面才能够沉积,由此可以实现打线所需要的正负电极厚度,即把预沉积的微晶连线厚度增加到打线所需要的厚度1.5-2微米。因此,在有效形成数十纳米厚的微晶电极和1.5-2微米厚的芯片正负电极的同时,既没有电镀的整面导电问题,又没有电子束蒸发镀金的浪费问题,可以很好的避免Au的浪费,有效地降低了ACLED芯片的生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 ac led 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种AC LED芯片的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:S11、在衬底上生长出具有缓冲层、n型氮化物层、发光层和p型氮化物层的外延片;S12、在外延片上刻蚀出多个间隔排列的台阶,每个台阶的刻蚀深度至n型氮化物层;S13、在每个台阶上刻蚀出沟槽,沟槽的刻蚀深度至衬底且刻蚀宽度小于台阶的刻蚀宽度,由此在外延片上形成多个间隔排列的微晶;S14、在相邻微晶的负极和正极之间形成钝化层;S15、在芯片和微晶的正极上形成电流扩散层;S16、在相邻微晶的负极和正极之间沉积微晶连线,同时在芯片正负电极上实现预沉积;S17、在芯片上除正负电极之外的区域形成第一保护层;S18、在预沉积的芯片正负电极处利用化学还原镀金方法沉积金。
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