[发明专利]一种AC LED芯片的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110288041.1 申请日: 2011-09-26
公开(公告)号: CN103022276A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 陈万世 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L27/15
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518118 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种ACLED芯片的制备方法,通过先在相邻微晶的负极和正极之间沉积微晶连线,同时在芯片正负电极上实现预沉积,即在芯片正负电极上也预先沉积与微晶连线相同的材料;然后在预沉积的芯片正负电极处利用化学还原镀金的方法沉积金,因为化学还原镀金只有在金的表面才能够沉积,由此可以实现打线所需要的正负电极厚度,即把预沉积的微晶连线厚度增加到打线所需要的厚度1.5-2微米。因此,在有效形成数十纳米厚的微晶电极和1.5-2微米厚的芯片正负电极的同时,既没有电镀的整面导电问题,又没有电子束蒸发镀金的浪费问题,可以很好的避免Au的浪费,有效地降低了ACLED芯片的生产成本。
搜索关键词: 一种 ac led 芯片 制备 方法
【主权项】:
一种AC LED芯片的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:S11、在衬底上生长出具有缓冲层、n型氮化物层、发光层和p型氮化物层的外延片;S12、在外延片上刻蚀出多个间隔排列的台阶,每个台阶的刻蚀深度至n型氮化物层;S13、在每个台阶上刻蚀出沟槽,沟槽的刻蚀深度至衬底且刻蚀宽度小于台阶的刻蚀宽度,由此在外延片上形成多个间隔排列的微晶;S14、在相邻微晶的负极和正极之间形成钝化层;S15、在芯片和微晶的正极上形成电流扩散层;S16、在相邻微晶的负极和正极之间沉积微晶连线,同时在芯片正负电极上实现预沉积;S17、在芯片上除正负电极之外的区域形成第一保护层;S18、在预沉积的芯片正负电极处利用化学还原镀金方法沉积金。
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