[发明专利]调节X射线系统的曝光视场的方法及装置和X射线系统有效
申请号: | 201110289147.3 | 申请日: | 2011-08-31 |
公开(公告)号: | CN102961154A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 王建;叶斌;黄雁南;韩永辉 | 申请(专利权)人: | GE医疗系统环球技术有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 柯广华;朱海煜 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及调节X射线系统的曝光视场的方法及装置和X射线系统。该方法包括:通过图像传感器捕获X射线系统的检查台处的患者的图像,其中所述图像传感器被布置在X射线系统中的预定位置处;将捕获的图像显示在显示器上以供用户在所述图像上选择关注区域或关注点;响应于在所述图像上对关注区域或关注点的选择,自动地确定X射线源的目标位置,其中,当X射线源位于所述目标位置时获得覆盖所述关注区域或关注点的期望曝光视场;以及响应于所述目标位置的确定,自动地使所述X射线源定位在所述目标位置。通过本发明可以实现曝光视场的自动调节。 | ||
搜索关键词: | 调节 射线 系统 曝光 视场 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于自动调节X射线系统的曝光视场的方法,包括步骤:通过图像传感器捕获X射线系统的检查台处的患者的图像,其中所述图像传感器被布置在X射线系统中的预定位置处;将捕获的图像显示在显示器上以供用户在所述图像上选择关注区域或关注点;响应于在所述图像上对关注区域或关注点的选择,自动地确定X射线源的目标位置,其中,当X射线源位于所述目标位置时获得覆盖所述关注区域或关注点的期望曝光视场;以及响应于所述目标位置的确定,自动地使所述X射线源定位在所述目标位置。
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