[发明专利]一种溶剂渗透纳米压印微纳结构制备方法无效
| 申请号： | 201110290555.0 | 申请日： | 2011-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN102955355A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 王金合;闵国全;宋志棠;周伟民;张静;张燕萍 | 申请（专利权）人： | 上海市纳米科技与产业发展促进中心 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200237 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明是一种利用溶剂渗透的方法制备微纳结构的纳米压印方法。其特征在于：首先利用聚合物溶液和硅橡胶(PDMS)软模板进行聚合物溶液的微纳结构预成型，然后利用聚合物溶液中的溶剂向PDMS模板的渗透使聚合物析出的方法实现聚合物微纳结构的成型。这种制备微纳结构的方法适合多种聚合物以及聚合物/纳米粒子共混物的微纳结构加工，对成型材料限制少，适用范围广；成型过程中无需紫外光或者加热辅助固化，成型设备简单，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溶剂 渗透 纳米 压印 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种微纳结构的加工方法，其特征在于：采用聚合物或者聚合物/纳米粒子共混物溶液和软模板进行预成型，然后通过溶剂渗透方法去除溶剂使聚合物析出形成微纳结构图案，过程中无需紫外光或者加热固化过程。
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