[发明专利]一种无镉的铜铟镓硒薄膜太阳能电池缓冲层的沉积方法无效
申请号: | 201110292268.3 | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN102337516A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 彭寿;王芸;向光;任志艳;甘治平 | 申请(专利权)人: | 中国建材国际工程集团有限公司;蚌埠玻璃工业设计研究院;广东凯盛光伏技术研究院有限公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;H01L31/18 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 杨晋弘;倪波 |
地址: | 200063 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开一种无镉的铜铟镓硒薄膜太阳能电池缓冲层的沉积方法,选用金属有机物二乙基锌和硫化氢为反应物,氮气为载流气体和清洗气体,采用原子层沉积方法制备CIGS太阳能电池的缓冲层,充分利用原子层沉积方法在沉积超薄薄膜方面具有致密性、保形性,无针孔性及薄膜厚度控制精确的优势,沉积出无镉的,无针孔的CIGS太阳能电池缓冲层,抑制了由于针孔引起的电池内部短路现象,提高了太阳能电池转换效率,同时也起到了减少环境污染的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 缓冲 沉积 方法 | ||
【主权项】:
一种无镉的铜铟镓硒薄膜太阳能电池缓冲层的沉积方法,其特征在于,将已沉积金属背电极及吸收层CIGS的钠钙玻璃衬底放入原子层沉积装置的反应室中,对反应室抽真空,本底真空在5×10‑3mbar以下,选用金属有机物二乙基锌和硫化氢为反应物,氮气为载流气体和清洗气体,对衬底加热至200℃,以氮气为载流气体通入二乙基锌做反应气体,二乙基锌与衬底产生化学吸咐,在衬底表面吸咐一层二乙基锌,通入纯氮气将多余的二乙基锌带走,再通入氮气做载流气体的H2S气体,H2S气体与吸咐在衬底上的二乙基锌发生化学反应生成ZnS薄膜,最后通入氮气将反应生成的气体及末反应完的气体清洗走,一层ZnS分子薄膜沉积形成,重复上述沉积过程,将化合物原子一层接一层沉积在衬底上,直至ZnS薄膜缓冲层达到所需的厚度40—80nm。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的