[发明专利]一种去除碳化硅微粉中二氧化硅组份的方法无效

专利信息
申请号: 201110294530.8 申请日: 2011-10-08
公开(公告)号: CN102502637A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: 刘来宝 申请(专利权)人: 江苏佳宇资源利用股份有限公司
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 222115 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种去除碳化硅微粉中二氧化硅(SiO2)的方法。本发明利用氢氧化纳、氢氧化钾等最普通的化学碱为原料,通过熔融净化达到去除碳化硅微粉中二氧化硅的目的。由于氢氧化纳、氢氧化钾在高温熔融状态与SiO2具有很好的反应活性,对碳化硅微粉残留量的Si和SiO2具有极好的去除效果。本方法工艺实现简易,后处理方便,在工业生产中可以大幅度降低碳化硅微粉中SiO2和Si的总含量到0.1%以下,可以使得碳化硅微粉产品中二氧化硅、硅的残留指标控制得到充分保证。
搜索关键词: 一种 去除 碳化硅 微粉中 二氧化硅 方法
【主权项】:
一种去除碳化硅微粉中二氧化硅的方法,其特征在于该方法包括以下步骤:(1)熔融净化:将碳化硅微粉粗料中加入固态化学碱,按重量配比每1000份碳化硅微粉粗料,化学碱50~1000份;将物料拌混均匀后,升温到净化反应温度T,使得物料达到熔融状态,保持温度,反应0.5‑5.0小时;冷却备用;(2)溶出:在搅拌装置中依次加入熔融净化后的碳化硅物料、水,按重量配比每1000份碳化硅物料,水400~3000份;搅拌、压滤;收集固态物,重复操作2‑4次;物料体系烘干处理,得到碳化硅微粉精制品。
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