[发明专利]光掩模缺陷修正方法、图案转印方法、光掩模及其制造方法

摘要

光掩模缺陷修正方法、图案转印方法、光掩模及其制造方法。在光掩模的缺陷修正方法中，使用缺陷修正装置来修正光掩模中产生的多余缺陷，该光掩模是对形成于透明基板上的遮光膜进行图案加工而形成的，具有透光部和遮光部。该缺陷修正方法包括：膜去除步骤，将位于所述透光部的多余缺陷、和与具有该多余缺陷的透光部邻接的遮光部的遮光膜的一部分同时去除；以及膜形成步骤，在通过该膜去除步骤去除了遮光膜的一部分的遮光部中形成修正膜，在该膜形成步骤中进行的膜形成是针对如下的遮光部而进行的，该遮光部的宽度大于通过缺陷修正装置的一次修正操作所能形成的最小膜形成宽度。

主权项

一种光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正装置来修正光掩模中产生的多余缺陷，该光掩模是对形成于透明基板上的遮光膜进行图案加工而形成的，具有透光部和遮光部，该缺陷修正方法的特征在于，包括：膜去除步骤，将位于透光部的所述多余缺陷、和与具有所述多余缺陷的透光部邻接的遮光部的遮光膜的一部分同时去除；以及膜形成步骤，在通过所述膜去除步骤去除了遮光膜的一部分的所述遮光部中形成修正膜，在所述膜形成步骤中进行的膜形成是针对如下的遮光部进行的，该遮光部的宽度大于通过所述缺陷修正装置的一次修正操作所能形成的最小膜形成宽度。