[发明专利]光调制器像素单元及其制作方法有效
| 申请号： | 201110298381.2 | 申请日： | 2011-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN102360119A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 毛剑宏;唐德明 | 申请（专利权）人： | 上海丽恒光微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供MEMS光调制器像素单元及其制作方法，所述光调制器像素单元包括：位于衬底上的层间介质层，位于层间介质层内的空腔；位于衬底上的层间介质层内、且与所述空腔的位置对应的底部电极、可动电极和顶部电极；滤光片，位于所述顶部电极上，用于将白光转换为三基色光线；所述可动电极具有光线反射面，所述顶部电极为半透光的金属薄膜，利用所述可动电极在空腔内的运动，使得所述光调制器能够对将滤光片转换后的三基色光线进行调制。本发明实施例解决了现有的光调制器像素单元普遍需要利用单色光源发出的单色光线作为入射光线的问题，降低了光调制器像素单元的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 调制器 像素 单元 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光调制器像素单元，其特征在于，包括：衬底；所述衬底上具有含有空腔的层间介质层；底部电极，位于所述衬底上对应所述空腔的位置；顶部电极，位于所述空腔上方对应于底部电极位置的层间介质层内，所述顶部电极为半透光的金属薄膜；滤光片，位于所述顶部电极上，用于将白光转换为三基色光线；可动电极，位于所述底部电极与顶部电极之间的空腔内，所述可动电极面向顶部电极的表面为光线反射面，所述可动电极能够沿垂直于光线反射面的方向移动，并分别位于第一位置、第二位置或第三位置，使得三基色光线中的一种透过顶部电极并经可动电极反射后的光线在顶部电极发生干涉。
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