[发明专利]含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法有效
| 申请号： | 201110298605.X | 申请日： | 2011-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN102408871A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 雷红;陈入领;蒋磊;李虎;陈思思;王志军;江冉冉 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 陆聪明 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒为：a.由氧化硅与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化硅磨粒；b.由氧化铝与与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化铝磨粒。该复合磨粒为纳米级孔道结构，可降低磨料硬度，减小无机致密磨粒对基片的过度碰撞，以降低抛光损伤；该磨粒的化学组成上含有铁或铜、铈、镍、钛、银等抛光活性元素，可提高磨粒的化学作用，同时磨粒的多孔结构可吸附储存抛光液成分，提高磨粒的化学活性。化学作用的提高可提高磨粒的抛光速度，这样设计的磨粒可同时达到“高速率、高精度”抛光的目的。采用本发明提供的抛光液对电子器件如硬盘基片进行抛光，可以有效降低存储器硬盘基片表面的粗糙度，并具有高的抛光速度。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 活性 元素 多孔 纳米 复合 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒，其特征在于该复合磨粒为：a. 由氧化硅与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化硅磨粒，其中所述的抛光活性元素与氧化硅的摩尔比为1～20：100；所述的抛光活性元素为：铈、锆、铜、镍、钛、银或铁；b. 由氧化铝与与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化铝磨粒，其中所述的抛光活性元素与氧化铝的摩尔比为1～20：100；所述的抛光活性元素为：铈、锆、铜、镍、钛、银或铁。
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