[发明专利]基板清洗系统有效
申请号: | 201110299537.9 | 申请日: | 2011-09-28 |
公开(公告)号: | CN102626695A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 吴健 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种基板清洗系统,涉及薄膜晶体管液晶显示器制造领域,能够对水资源进行循环利用,减少了废水的排放,节省了水资源。其中基板清洗设备,包括第一水供给单元、第二水供给单元。所述第一水供给单元、第二水供给单元都与所述第一水洗区间连接,用于轮流为所述第一水洗区间的喷洒装置供水,所述第一水洗区间还通过回流管路连接至所述第一水供给单元、第二水供给单元,以将喷洒装置喷出的水和基板上冲下的药液回收入所述第一水供给单元、第二水供给单元。 | ||
搜索关键词: | 清洗 系统 | ||
【主权项】:
一种基板清洗系统,包括药液区间、药液供给区间以及至少两个水洗区间,与所述药液区间相邻的水洗区间为第一水洗区间,与第一水洗区间相邻的水洗区间为第二水洗区间,药液区间与各个水洗区间都设置有喷洒装置以及水平方向的传动装置,其中所述药液供给区间将药液输入所述药液区间的喷洒装置,以对传动装置上运送的基板进行药液喷洒,所述药液供给区间还对经所述药液区间的喷洒装置喷洒的药液进行回收,其特征在于,还包括:第一水供给单元、第二水供给单元,其中,所述第一水供给单元、第二水供给单元都与所述第一水洗区间连接,用于轮流为所述第一水洗区间的喷洒装置供水,所述第一水洗区间还通过回流管路连接至所述第一水供给单元、第二水供给单元,以将喷洒装置喷出的水和基板上冲下的药液回收入所述第一水供给单元、第二水供给单元;所述第一水供给单元、第二水供给单元经排水管道进行废水排放;所述第一水供给单元、第二水供给单元将通过所述回流管路得到的水及从所述第二水洗区间得到的水重新输入所述第一水洗区间,以对基板进行喷洒。
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