[发明专利]去除光掩模板表面微尘和沾污的装置及其方法无效
申请号: | 201110301054.8 | 申请日: | 2011-09-28 |
公开(公告)号: | CN102360157A | 公开(公告)日: | 2012-02-22 |
发明(设计)人: | 毛智彪 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;B08B3/00;B08B11/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陆花 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种去除光掩模板表面微尘和沾污的装置及其方法,该种装置包括下端开口的腔体、容置在腔体内的平台以及平行于所述平台且位于平台上方的可移动的喷淋装置,所述腔体上设有进气管和出气口,所述进气管一端连接至气溶剂发生装置,另一端连接至喷淋装置。本发明采用气溶剂作为清洗源以及可移动的喷淋装置,有效地提高了去除光掩模板表面微尘和沾污的效率,减少了产生雾状缺陷的概率,延长了光掩模板的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 去除 模板 表面 微尘 沾污 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种去除光掩模板表面微尘和沾污的装置,其特征在于:所述装置包括下端开口的腔体、容置在腔体内的平台以及平行于所述平台且位于平台上方的可移动的喷淋装置,所述腔体上设有进气管和出气口,所述进气管一端连接至所述喷淋装置,另一端用于连接至一气溶剂发生装置。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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