[发明专利]分离装置有效
申请号: | 201110301772.5 | 申请日: | 2011-10-08 |
公开(公告)号: | CN102442719A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 石黑裕隆;吉田干;风吕中武 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | C02F1/48 | 分类号: | C02F1/48 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 党晓林;王小东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种分离装置,其能够高效地将含有硅屑的废液以容易再利用的状态分离为硅屑和水。该分离装置包括:液槽(21),其贮留水中含有硅屑的废液;和硅分离机构(22),其配置于该液槽(21)内,硅分离机构(22)包括:吸附板(25),其配置于液槽(21)内并在废液中吸附硅屑;硅穿过限制构件(26),其仅容许废液中的水穿过而限制硅屑穿过;吸附板移动构件(30);以及分离部(40)。 | ||
搜索关键词: | 分离 装置 | ||
【主权项】:
一种分离装置,其为将含有硅屑的废液分离为硅屑和不含硅屑的液体的分离装置,其特征在于,该分离装置包括:贮留所述废液的液槽;和配置于所述液槽中的硅分离机构,所述硅分离机构包括:吸附板,所述吸附板带正电,并且在所述废液中吸附带负电的所述硅屑;以及硅穿过限制构件,所述硅穿过限制构件包括硅穿过限制板,该硅穿过限制板与所述吸附板对置地配设,并且该硅穿过限制板仅容许所述废液的液体穿过而限制带负电的所述硅屑穿过,所述硅穿过限制构件包括:壳体,所述壳体分隔出穿过了所述硅穿过限制板的液体所存在的区域;以及运出部,所述运出部配置在所述壳体内,并且将穿过了所述硅穿过限制板的所述废液运出到所述液槽外,所述分离装置具有电场形成构件,该电场形成构件使所述吸附板为阳极,使所述硅穿过限制板为阴极,从而在所述吸附板和所述硅穿过限制板之间形成电场,所述分离装置具有回收机构,该回收机构回收吸附于所述吸附板的硅,所述回收机构包括:吸附板移动构件,所述吸附板移动构件使所述吸附板相对于所述废液移动;以及分离部,所述分离部使硅从所述吸附板分离。
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