[发明专利]一种在假牙支架表面溅射保护膜的方法有效
| 申请号： | 201110302977.5 | 申请日： | 2011-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN102423270A | 公开（公告）日： | 2012-04-25 |
| 发明（设计）人： | 尹路 | 申请（专利权）人： | 尹路 |
| 主分类号： | A61C13/00 | 分类号： | A61C13/00;C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361000 福建省厦*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种在假牙支架表面溅射保护膜的方法，涉及一种假牙支架。将假牙支架试件进行预处理；将假牙支架试件表层进行气体等离子体处理，其具体方法是将假牙支架试件暴露在由氮气和氦气组成的混合气体的等离子体氛围中进行处理，然后导入含碳的有机化合物，在假牙试件表面形成一层渗氮类金刚石碳膜，并借助等离子体使气体成分与假牙试件的表面形成牢固结构；将离子体处理后的假牙支架试件进行热处理，得表面溅射有保护膜的假牙支架。采用脉冲真空电弧离子镀，在制备类金刚石薄膜的过程中没有氢气参与，因而膜层性能稳定，基片没有负偏压，所以不会有负偏压放电破坏膜层的现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 假牙 支架 表面 溅射 保护膜 方法 | ||
【主权项】：
一种在假牙支架表面溅射保护膜的方法，其特征在于包括以下步骤：1)将假牙支架试件进行预处理；2)将假牙支架试件表层进行气体等离子体处理，其具体方法是将假牙支架试件暴露在由氮气和氦气组成的混合气体的等离子体氛围中进行处理，然后导入含碳的有机化合物，在假牙试件表面形成一层渗氮类金刚石碳膜，并借助等离子体使气体成分与假牙试件的表面形成牢固结构；3)将经步骤2)等离子体处理后的假牙支架试件进行热处理，得表面溅射有保护膜的假牙支架。
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