[发明专利]薄膜工艺设备及其制作方法有效
| 申请号： | 201110303902.9 | 申请日： | 2011-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN103031535A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 萧盈诗;吉村俊秋 | 申请（专利权）人： | 核心能源实业有限公司;吉村俊秋 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/455 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是有关于一种薄膜工艺设备及一种薄膜制作方法，包括：一个反应室、一个供气机构及一个输送机构，本发明的技术特征在于：提供一种可以上下或左右移动的供气结构及可上下移动的载盘，由此可调整供气结构与基板的距离，配合具有循环泵热源的加热机构，使得生成薄膜效果更佳。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 工艺设备 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜工艺设备，包括：一底板，具有一第一面及一相对该第一面的一第二面，而该第一面用以承载一基板；一反应室，为一密闭空间，具有一顶部及相对该顶部的一底部；一供气机构，配置于该反应室内的该顶部；及一输送机构，配置于该反应室内的该底部的两侧边上，供输送该底板及该基板至该反应室中；一加热机构，配置于该反应室内的该底部的两侧边之间，与该底板该第二面相接触，用以加热该基板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于核心能源实业有限公司;吉村俊秋，未经核心能源实业有限公司;吉村俊秋许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110303902.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
