[发明专利]结合进气和排气的喷头无效
申请号: | 201110305612.8 | 申请日: | 2011-10-11 |
公开(公告)号: | CN102534557A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 黄智勇;王庆钧;蔡陈德;许文通;董福庆;陈建志;潘益宗;孙健仁 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种结合进气和排气的喷头,其适于喷洒气体。这样的喷头至少包括一喷头主体,其具有气体作用表面及多个位于气体作用表面的进气孔。喷头主体还包括位于气体作用表面的中央的中央排气口。中央排气口能抽离滞流气体,还能将反应过程中的副产物先行排掉。 | ||
搜索关键词: | 结合 排气 喷头 | ||
【主权项】:
一种结合进气和排气的喷头,适于进行气体的喷洒,该喷头至少包括一喷头主体,其特征在于:该喷头主体具有一气体作用表面、位于该气体作用表面上的多数个进气孔以及位于该气体作用表面的中心位置的一中央排气口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的