[发明专利]一种新型抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法无效
| 申请号： | 201110308287.0 | 申请日： | 2011-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN103147270A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 青岛同盈家纺有限公司 |
| 主分类号： | D06M10/00 | 分类号： | D06M10/00;D06M11/83;D06M11/46;C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供一种新型抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法，其特征在于先对所述纺织材料的基材作等离子体处理，随后采用溅镀方法在负压下溅射银、铜或钦的靶材制得原子、分子级银、铜或二氧化钦，并在同时将原子、分子级的银、铜或二氧化钦加载于纺织材料表面，所述纺织材料的基材的等离子体预处理采用介质阻挡放电低温等离子体处理机，本发明优点.采用的负压溅射技术.实现了抗菌剂制备和加载过程的同时进行，对纺织材料的基材作等离子体预处理可使经负压溅射的镀膜层更致密、稳定、牢固，同时解决了一般后处理涂布方法中纳米级二氧化钦粒子的团聚问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 抗菌 纺织 材料 负压溅镀 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种新型抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法，其特征在于先对所述纺织材料的基材作等离子体处理，随后采用溅镀方法在负压下溅射银、铜或钦的靶材制得原子、分子级银、铜或二氧化钦，并在同时将原子、分子级的银、铜或二氧化钦加载于纺织材料表面，所述纺织材料的基材的等离子体预处理采用介质阻挡放电低温等离子体处理机，处理条件为：处理时间：0.5‑5min，气体温度：200‑350K，气压为普通大气压；所述在负压下溅射银、铜或钦的靶材时，通入氢气作为激发气体，在溅射钦时还同时通入氧气以形成二氧化钦，溅镀条件为：时间：2‑70min，负压：133‑1x10‑3，Pa。
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