[发明专利]热处理炉结构

摘要

一种供气体反应使用的热处理炉结构，包括：一外炉体、一内炉体、一加热机构、一供气机构，及一控制机构，由控制机构控制进气量可有效使得，内炉体外侧流动空间中第一压力(P1)，始终大于内炉体内侧反应空间中第二压力(P2)。由此设计可使得反应气体流速可加快，增快薄膜反应速率，且提升膜质均匀度，同时也可提升降温速率，增加操作安全性。

主权项

一种供气体反应使用的热处理炉结构，包括：一外炉体，具有一第一侧边及相对该第一侧边的第二侧边，且于该第一侧边上装设一可开启第一闸门，于该第二侧边上装设一可开启第二闸门，且该第一闸门的内侧配置一第一气密结构，而该第二闸门的内侧配置一第二气密结构；一内炉体，具有一外侧壁及一内侧壁，间隔地固设于该外炉体的内部，使得该内炉体的该外侧壁与该外炉体间形成一气体流动空间，且于该内炉体内侧壁的中形成一反应空间，该内炉体具有一第三侧边及相对该第三侧边的第四侧边，于该第一闸门闭合时，该第一气密结构与该第三侧边气密地接合，而第二气密结构与该第四侧边气密地接合，使得该气体流动空间与该反应空间各自形成独立的气密空间；一加热机构，固设于该内炉体外侧壁上，且与该内炉体外侧壁相接触；及一供气机构，配置于该外炉体的外部，经过多个气体管路与该外炉体一侧边及该内炉体一侧边相连接，可控制地提供一第一气体至该气体流动空间与提供一第二气体至该反应空间中；以及一控制机构，配置于该外炉体的外部，用以控制该供气机构提供该第一气体及该第二气体至该气体流动空间与该反应空间中的量，使得该气体于流动空间形成一第一压力(P1)，而反应空间形成一第二压力(P2)。