[发明专利]抗蚀剂图案计算方法

摘要

本申请涉及抗蚀剂图案计算方法。一种使用计算机计算形成在衬底上的抗蚀剂图案的方法包括：第一步，基于中间掩模图案和曝光条件来计算形成在抗蚀剂上的光学图像的光强度分布；第二步，使用第一扩散长度对计算的光强度分布进行卷积；第三步，从计算的光强度分布或者卷积的光强度分布计算代表性光强度；第四步，通过将校正函数与卷积的光强度分布相加来对卷积的光强度分布进行校正，所述校正函数包括由下式给出的第一函数：其中，J是代表性光强度的分布；和第五步，基于校正的光强度分布和预先设置的限幅水平来计算抗蚀剂图案。

主权项

一种使用计算机计算抗蚀剂图案的方法，所述抗蚀剂图案是通过中间掩模的图案和投射光学系统使抗蚀剂曝光并使曝光的抗蚀剂显影而形成在衬底上的，所述方法包括：第一步，基于所述中间掩模的图案和曝光条件来计算形成在所述抗蚀剂上的光学图像的光强度分布；第二步，使用第一扩散长度对在第一步中计算的光强度分布进行卷积；第三步，使用在第一步中计算的光强度分布或者在第二步中卷积的光强度分布来计算每个点的代表性光强度，所述代表性光强度代表具有预定大小并包括限定在所述抗蚀剂的平面内的所述点的区域中的光强度；第四步，通过将校正函数与在第二步中卷积的光强度分布相加来对在第二步中卷积的光强度分布进行校正，所述校正函数包括由下式给出的第一函数： { Σ k = 0 n ( a k J k ) } exp ( - αJ ) 其中，J是所述代表性光强度的分布，ak和α是常数，n是自然数；和第五步，基于在第四步中校正的光强度分布和预先设置的限幅水平来计算所述抗蚀剂图案。