[发明专利]光刻工艺集成量测图形以及光刻工艺量测方法有效
| 申请号： | 201110310582.X | 申请日： | 2011-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN102360168A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 王剑;毛智彪;戴韫青 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B21/02;G01B21/16;H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻工艺集成量测图形以及光刻工艺量测方法。根据本发明的光刻工艺集成量测图形包括：用于量测垂直隔离线条的垂直隔离线条量测部分、用于量测水平隔离线条的水平隔离线条量测部分、用于量测垂直隔离沟槽的垂直隔离沟槽量测部分、用于量测水平隔离沟槽的水平隔离沟槽量测部分、用于量测垂直密集线条的垂直密集线条量测部分、用于量测水平密集线条的水平密集线条量测部分、用于量测垂直密集沟槽的垂直密集沟槽量测部分、用于量测水平密集沟槽的水平密集沟槽量测部分中的多个或全部。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 工艺 集成 图形 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻工艺集成量测图形，其特征在于包括：用于量测垂直隔离线条的垂直隔离线条量测部分、用于量测水平隔离线条的水平隔离线条量测部分、用于量测垂直隔离沟槽的垂直隔离沟槽量测部分、用于量测水平隔离沟槽的水平隔离沟槽量测部分、用于量测垂直密集线条的垂直密集线条量测部分、用于量测水平密集线条的水平密集线条量测部分、用于量测垂直密集沟槽的垂直密集沟槽量测部分、用于量测水平密集沟槽的水平密集沟槽量测部分中的多个或全部。
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